ASML 计划在今年内交付🔊台 0.55 数值孔径（NA）的极紫外（EUV）光刻机。这台光刻机主要用于开发目的，帮助客户熟悉新技术和功能。高 NA 极紫外光刻机商业使用预计要到 2025 年之后。数值孔径（NA）用以衡量光学系统能够收集的光的角度范围，它描述了物镜收光锥角的大小，而后者决定了显微镜收光能力和空间分辨率。0.55 NA 对应的光刻分辨率 8nm。ASML 没有披露首位高 NA 极紫外光刻机的客户名字，但推测就是英特尔。英特尔此前透露它的 18A 工艺节点将使用高 NA 光刻机，由于时间表提前而采用其它方案，但它可能会在 18A 工艺节点的后期使用高 NA EUV 光刻机。这些光刻机价格不菲，预计超过 3 亿美元，将进一步加大先进晶圆厂的制造成本。
https://www.tomshardware.com/news/asml-to-ship-first-high-na-euv-tool-this-year-dollar300-million-per-scanner
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